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靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單的說，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產(chǎn)生不同的破壞效應。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。將鐵磁性靶材的厚度減薄是解決磁控濺射鐵磁材料靶材的常見方法。如果鐵磁性靶材足夠薄，則其不能全屏蔽磁場，一部分磁通將靶材飽和，...

超薄純碳膜不帶芳華膜，負載于微柵碳膜上，微柵碳膜孔洞上碳膜厚度小于3nm，是目前薄的碳支持膜。此超薄純碳膜非常適用于低對比度顆粒樣品做高分辨TEM。電子顯微鏡與光學顯微鏡的成像原理基本一樣，所不同的是前者用電子束作光源，用電磁場作透鏡。另外，由于電子束的穿透力很弱，因此用于電鏡的標本須制成厚度約50nm左右的超薄切片。這種切片需要用超薄切片機制作。電子顯微鏡的放大倍數(shù)高可達近百萬倍、由照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、記錄系統(tǒng)、電源系統(tǒng)構(gòu)成，如果細分的話，主體部分是電子透鏡和顯像...

碳膜即碳支持膜，是透射電子顯微鏡(TEM)用來檢測樣品的專用載體，主要應用于納米材料、生物材料等微觀物質(zhì)的表征，是常用的支持膜之一。當碳膜用在電阻領域時，電阻的類型較多，其外形、價格、性能差異較大，分別適用于不同的電路場合，不同材料的產(chǎn)品其性質(zhì)各有區(qū)別，我們來看看：1.碳膜電阻碳膜電阻(碳薄膜電阻)為早期也普遍使用的電阻器，利用真空噴涂技術(shù)在瓷棒上面噴涂一層碳膜，再將碳膜外層加工切割成螺旋紋狀，依照螺旋紋的多寡來定其電阻值，螺旋紋愈多時表示電阻值愈大。后在外層涂上環(huán)氧樹脂密封...

在利用掃描電鏡分析非導電樣品時，因為樣品的不導電性，會在樣品表面累積電離子，因此在成像過程中會產(chǎn)生大量的放電現(xiàn)象，嚴重影響圖像質(zhì)量。因此在觀察非導體時一般都要事先用鍍膜儀在試樣表面上蒸涂（沉積）一層重金屬導電膜，這樣既可以消除試樣荷電現(xiàn)象，又可以增加試樣表面導電導熱性，減少電子束造成的試樣（如高分子及生物試樣）損傷、提高二次電子發(fā)射率。鍍膜儀當接通高壓，陰極發(fā)射電子，電子能量增加到1-3kev，轟擊低真空中（3-10pA)的氣體，使其電離，激發(fā)出的電子在電場中被加速，繼續(xù)轟擊...

靶材特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理氣相沉積工藝（PVD），是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。對靶材用量較大的行業(yè)主要有半導體集成電路、平板顯示器、太陽能電池、磁記錄介質(zhì)、光學器件等。其中，高純度濺射靶材主要用于對材料...

探針可以將質(zhì)譜測定技術(shù)與離子發(fā)射顯微鏡技術(shù)相結(jié)合作為現(xiàn)代儀器分析方法。能提供一般質(zhì)譜分析所不能提供的試樣微區(qū)質(zhì)譜。由于它能對固體物質(zhì)作微區(qū)、微量及深度成分分析，在某些條件下檢測靈敏度可達ppb數(shù)量級，因此被廣泛用于半導體、冶金、地質(zhì)和生物研究等部門。其原理是利用聚焦的高能一次離子束轟擊試樣表面，濺射出表征試樣成分的二次離子束，通過磁場完成質(zhì)荷比分離，根據(jù)二次離子的質(zhì)荷比和強度來進行定性和定量分析。探針的主要應用領域有以下幾大常見的：1.半導體材料①表面、界面和體材料的雜質(zhì)分析...

徠卡超薄切片機可進行常溫或冷凍的半薄和超薄切片，以及樣品表面光滑處理，為透射電鏡、掃描電鏡、原子力顯微鏡和光鏡檢驗生物樣品，高分子材料以及工業(yè)樣品提供切片制樣。該超薄切片機為機械推進式切片機，用微動螺旋和微動杠桿來提供微小推進，使用金剛石刀片對樣品進行切片。用超薄切片法，可得到25左右的分辨率;同電鏡本身早已達到2-3的分辨本領相比，還有相當大的“差距”。這種差距意味著許多結(jié)構(gòu)細節(jié)尚未被人們發(fā)現(xiàn)和認識，同時也告誡人們不能滿足現(xiàn)今已有的制樣技術(shù)。在電鏡技術(shù)中，有兩種分辨率：一種...